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CMP抛光液研发装置

描述：CMP 抛光液研发装置是专门用于开发和优化 CMP 抛光液的关键设备。

  • 厂商性质：生产厂家
  • 更新时间：2024-08-14
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产品详情/ PRODUCT DETAIL

标题：CMP抛光液研发装置

产品概述

CMP 抛光液研发装置是专门用于开发和优化 CMP 抛光液的关键设备。


主要组成部分：


  1. 小型反应釜：用于进行各种化学合成和调配实验。

  2. 精密计量系统：能够精确控制各种原材料的添加量，确保配方的准确性。

  3. 多模式搅拌系统：提供不同的搅拌速度和方式，以模拟不同的反应条件。

  4. 温度和压力调节系统：可实现精确的温度和压力控制，满足多样化的实验需求。

  5. 在线监测仪器：如粒度分析仪、pH 计、粘度计等，实时监测抛光液的性能参数。

  6. 样品采集和分析系统：方便随时采集样品进行离线的深入分析。


工作原理：
研究人员根据设定的配方，通过精密计量系统将原材料加入小型反应釜中。利用多模式搅拌系统和温度、压力调节系统创造适宜的反应环境。在反应过程中，在线监测仪器实时反馈数据，研究人员根据这些数据调整实验参数。需要时，通过样品采集和分析系统获取更详细的信息，以不断优化抛光液的配方和工艺。


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