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H 型光电反应釜

简要描述:

H 型光电反应釜此装置能够实现控温耐高压操作,耐压 10MPa,采用 316L 不 锈钢釜体,内部与溶液可能接触的部位喷涂 PFA,保证了耐高温<200℃;温度控制采用的夹 层水浴或油浴控制,热传导速度快.

品牌自营品牌产地类别国产
应用领域医疗卫生,化工,生物产业,石油,电子
YZEPCR-H H 型光电反应釜又叫: H 型光电反应器双通道光电反应器H 型可换膜光电反应器 此装置能够实现控温耐高压操作,耐压 10MPa,采用 316L 锈钢釜体,内部与溶液可能接触的部位喷涂 PFA,保证了耐高温<200℃;温度控制采用的夹层水浴或油浴控制,热传导速度快。应釜中间可以添加离子膜,用于双室反应光电反应,也可以当做两个独立的光电反应釜使用,实现了一机多用。标配电极为三支,全部采用 PEEK 材料,电极既可以耐温,又可以耐压。
YZEPCR-H H 型光电反应釜参数表:
项目
参数
光电反应釜
316L 耐腐蚀不锈钢,内部全部喷涂 PTFE
H 型双室反应体系,单室可单独使用,单室容积 100ml
耐压
<10MPa,含进出气体阀门
温度
<100℃(水浴控温),<200(油浴控温),控温精度 0.1℃釜体内部
标配控温夹层,内部测温采用 Pt100,含温度显示表;通水孔 12mm
电极
PEEK 三电极(标配),选配进口耐高温耐压参比电极
通光孔
Φ40mm,蓝宝石(全光谱高透),双通光孔
要求离子膜规格
直径 50mm
阀门
岩征仪器高温高压针阀
密封
耐高温密封圈
光源(选配)
氙灯光源、LED 光源、汞灯光源
控温循环机
(选配)
循环控制系统

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