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光学材料研究反应装置

描述:光学材料研究反应装置,对光学材料的特性进行了简要分析,然后从常压烧结SiC、热压烧结SiC、反应烧结SiC以及化学汽相沉积。岩征仪器可按照客户工艺要求,非标定制成套反应系统。

  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-04-27
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产品详情/ PRODUCT DETAIL

标题:光学材料研究反应装置

产品概述

光学材料研究反应装置

一、简介:光学材料研究反应装置主要应用于连续相光催化,气固相光催化,气液反应光催化,在污染物降解,催化合成,硫化反应,热催化等领域获得很好的应用;尤其在光催化二氧化碳CO2还原、光电催化活性评价、VOC的降解分析(非甲烷总烃的降解分析)、苯系物的降解分析、国标乙醛的降解分析、甲醛的光催化、汽车尾气氮氧化物的降解分析、光催化的固氮反应等。岩征仪器可按照客户工艺要求,非标定制成套反应系统。

 

二、系统特点:

1、光热催化液体燃料评价系统设计方案采用标准PID工艺流程设计,装置主要元器件均采用国内外:如气体减压阀、背压阀采用美国TESCOM、压力表采用美国雅思科,欧米茄压力传感器;质量流量计采用Bronkhorst,主要管阀件采用Swagelok耐高温阀等。

2、可视高温反应器,耐温500℃,耐压6MPa;顶端配置进口蓝宝石视窗,内进气管延伸反应器底部,并配置有气体分布器。反应釜内配置石英杯,要求石英杯大小与反应釜内壁相吻合,保证传热均匀无温差。

 

3、置配置四个气路进料(氩气、氢气、一氧化碳气、二氧化碳气),采用盘管与混合罐一体的结构,可以增大其换热面积与混合效果。

4、控制仪表采用德国SIEMENS品牌仪表与计算机联合控制。并设置多级关联的保护系统,确保装置系统的设备和操作人员的安全。

5、控制单元集成在计算机控制软件中。系统内的参数控制均由电脑软件完成控制(压力、温度、流速等)。

6、测温用热电偶采用Omega牌热电偶,反应釜外测温点3个,釜内测温点1个。反应釜温度范围30-500℃,精度±0.5℃

 

三、系统备品备件清单表:

 

序号 名称 规格型号 品牌 数量

1 机械式压力表 10Mpa 2.5级 指针 Wika或等同 2

2 气体过滤器 2um Swagelok 2个

3 单向阀 1/3psi开启压力 Swagelok 2个

4 密封圈 石墨密封圈 岩征 6个

5 反应管接头 316L 岩征 4个

6 循环管 硅胶 岩征 1根

7 热电偶 KMQXL-125U-6 Omega 2只

8 热电偶接头1 RMJ-K-S Omega 2个

9 热电偶接头2 SMPW-CC-K-M Omega 2个

10 滤光片 420截止型 YZ 1片

11 滤光片 紫外光 YZ 1片

12 熔断器 /20A Chnt 10个

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